这个问题,随着梁孟松的加入,终于有了改观。梁孟松用了仅仅300天的时间,就让中芯国际实现了从28nm到14nm的技术跨越,14nm芯片的良品率也从3%提高到 95%。可以说,梁孟松的加入带动了中芯国际制程工艺的跨越式发展。中芯国际实现28nm到14nm的跨越,也极大地振奋了国内自主芯片产业的信心。

2020年1月份,中芯国际再次传来了令人激动的喜讯,中芯国际旗下的的中芯南方集成电路制造有限公司宣布首条14nm生产线投入生产。

然而,中芯国际的集成电路制造技术距世界先进水平还是有很大差距。不久前,台积电宣布5nm生产线即将投入量产,而同为半导体产业的三星已经将目光转向3nm生产线。在芯片领域,14nm和5nm之间还间隔着7nm的技术差距,也就是说,中芯国际和台积电的半导体技术仍然相差两代。

中芯国际制造技术突破的道路上,有两个难题——技术封锁和资金匮乏。

众所周知,半导体产业发展是建立在“烧钱”模式上的。每一次纳米工艺的进步,其成本都以几何倍增长。2019年中芯国际投入研发的资金达6.874亿美元,占销售收入的22%。

圆晶的成本随着制程的金属层数随着工艺的演进不断提升。例如13nm制程有六层金属,5nm最少会有14层金属,此外,半导体制作中还要引入新的技术,14nm时需要引入FinFET技术,5nm时引入堆叠横向纳米线技术。

其次是光刻技术成本。40nm和45nm制程需要用到40层光罩,而14nm和10nm就需要60层光罩。这对光刻机的要求近乎是苛刻的,而全球仅有一家成功成功开发EUV的公司——荷兰的阿斯麦。去年5月,中芯国际向荷兰订购一台光刻机,而这台光刻机的价格就达1.2亿欧元,其价格相当于两架波音737。

再者,美国一直掌握着半导体产业的核心技术,对中国半导体企业进行技术封锁。据路透社报道,美国周一宣布对中国半导体设备限制出口,防止中国通过民用商业等途径获取半导体设备和技术。

纵观中芯国际发展历程,在重重困境中一步步走到今天,实属不易。虽然中芯国际的工艺实力相较于世界顶尖水平还有差距,但中芯国际依旧给业界创造了不少奇迹。N+1工艺已经逼近7nm水准,而往后性能更加强大的的N+2工艺,必然能在技术上让中芯国际更有底气。

中芯国际此次技术工艺的突破,对中国半导体企业来说也具有战略意义。一方面,中芯国际的技术突破让“中国芯”在半导体产业有了更多的话语权,为中国电子产品企业的进一步发展奠定了基础。另一方面,中芯国际的新工艺也为我国半导体企业研发争取了更多的时间。

不过,目前国内半导体产业仍处于发展阶段,还存在很大差距,这也意味着中芯国际的前行之路依旧任重道远。在半导体产业大环境不利的情况下,中芯国际技术发展之路,必然充满着千难万险。

文/刘旷公众号,ID:liukuang110

 2/2   首页 上一页 1 2 下一页

文章TAG:中芯国际  提升  突破  
下一篇